正在半导体临盆范畴，某半导体临盆企业每天排放高达 1800 吨的工业废水，这些废水的处分成为一个闭节题目。半导体临盆流程极为庞杂，涉及浩繁工艺和技巧，且运用大宗有机溶剂，使得废水处分难度极大。

　　一、重金属污染。正在半导体修筑中，各类蚀刻液和冲洗剂常含有铜、锌、镉、铅、锡、镍等重金属。这些重金属若不适当处分，进入境遇后会对生态体例和人类强壮酿成主要损害。二、有机化合物。临盆流程中运用的溶剂（如异丙醇、丙酮等）、光阻剂以及其他有机增添物会排放到废水中，减少了废水的处分难度。三、酸碱物质。晶圆临盆和冲洗流程会用到大宗酸性（如硫酸、盐酸、硝酸）和碱性（如氢氧化钠和氢氧化钾）化学品，导致废水酸碱度失衡。四、悬浮固体。硅片切割时发生硅屑，以及其他固体残留物或者显现正在废水中，影响废水的水质。五、含氨废水。正在显影、冲洗、湿法刻蚀等流程中会排放大宗含氨废水，氨氮含量过高会对水体酿成富养分歧等题目。

　　化学浸淀法和氧化还原法正在半导体工业废水解决中运用较多。化学浸淀法操作简便、价钱低廉，紧要用于去除废水中的重金属污染物，席卷中和浸淀法、铁氧体浸淀法、硫化物浸淀法等。其道理是通过加入化学药剂与重金属离子爆发反响，将重金属离子转化尴尬溶的浸淀物质，再通过过滤或浸淀的技巧实行散开，从而到达去除方针。比方，正在中和浸淀法中，通过参与碱性物质，使重金属离子与氢氧根离子贯串造成浸淀。

　　蒸发结晶法和膜散开法是告竣半导体工业废水回用的苛重技巧。膜散开法拥有散开效果高、无二次污染、操作浅易、占地面积幼等特性，正在半导体工业废水处分中拥有很强的技巧上风，也是目前 “中水回用体例” 的紧要废水处分技巧。

　　该技巧席卷反渗出法、超滤法、电渗析等。个中，反渗出是使用反渗出道理，正在工业废水一侧施加较高压力，使动作溶剂的水分子透过半透膜，告竣水与重金属及其他溶质的散开。

　　生物法分为厌氧生物亲睦氧生物处分，紧要用于去除废水中的有机物，也可安排出脱氮除磷的处分工艺，去除废水中的氨氮和磷。目前可去除重金属的生物法有生物吸附法、生物絮凝法、植物修复法以及生物化学法。

　　生物法拥有浅易适用、流程支配简便、污泥量少、二次污染少、效益上等特性。厌氧生物处分是高浓度有机废水的常用途理技巧，正在无需供应氧的处境下，使用厌氧微生物的代谢流程，将有机物转化为大宗生物气（沼气）和少量细胞物质。其流程分为水解阶段、酸化阶段、产乙酸阶段和产甲烷阶段。

　　处分半导体工业废水并非易事，必要贯串多种废水处分技巧（分质分流），安排一个废水处分体例，才略使废水准稳到达所需模范。